干法和濕法蝕刻-等離子蝕刻和濕法蝕刻的優(yōu)缺點(diǎn)

蝕刻是從材料表面去除材料的過程。蝕刻的兩種主要類型是濕蝕刻和干蝕刻（例如，等離子體蝕刻）。涉及使用液體化學(xué)藥品或蝕刻劑去除基板材料的蝕刻工藝稱為濕蝕刻。在等離子體蝕刻工藝中，也稱為干蝕刻，使用等離子體或蝕刻氣體來去除襯底材料。干蝕刻會(huì)產(chǎn)生氣態(tài)產(chǎn)物，這些產(chǎn)物應(yīng)擴(kuò)散到大量氣體中并通過真空系統(tǒng)排出。干蝕刻有三種類型（例如等離子蝕刻）：化學(xué)反應(yīng)（通過使用反應(yīng)性等離子體或氣體），物理去除（通常通過動(dòng)量傳遞）以及化學(xué)反應(yīng)和物理去除的組合。另一方面，濕蝕刻僅是化學(xué)過程。

干法刻蝕（等離子刻蝕）和濕法刻蝕的優(yōu)缺點(diǎn)

?濕法刻蝕工藝的優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備簡單，刻蝕速率高，選擇性高。但是，有許多缺點(diǎn)。濕蝕刻通常是各向同性的，這導(dǎo)致蝕刻劑化學(xué)物質(zhì)去除了掩膜材料下方的基板材料。濕蝕刻還需要大量的蝕刻劑化學(xué)物質(zhì)，因?yàn)榛撞牧媳仨毐晃g刻劑化學(xué)物質(zhì)覆蓋。此外，必須一致地替換蝕刻劑化學(xué)物質(zhì)，以保持相同的初始蝕刻速率。結(jié)果，與濕蝕刻有關(guān)的化學(xué)和處理成本非常高。干蝕刻的一些優(yōu)點(diǎn)是其自動(dòng)化能力和減少的材料消耗。與濕法蝕刻相比，干法蝕刻（例如，等離子蝕刻）的成本更低。純化學(xué)干法蝕刻的一個(gè)例子是等離子體蝕刻。純化學(xué)蝕刻技術(shù)（特別是等離子蝕刻工藝）的缺點(diǎn)是它們不具有較高的各向異性，因?yàn)榉磻?yīng)物質(zhì)可以在任何方向上反應(yīng)并且可以從掩膜材料下方進(jìn)入。各向異性是指僅在一個(gè)方向上進(jìn)行蝕刻。當(dāng)只需要在垂直方向上去除材料時(shí)，此屬性很有用，因?yàn)椴粫?huì)去除被掩膜材料覆蓋的材料。在高各向異性至關(guān)重要的情況下，可以使用僅使用物理去除或物理去除和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的干法蝕刻技術(shù)。這是因?yàn)樗鼈儧]有很高的各向異性，因?yàn)榉磻?yīng)物種可以在任何方向發(fā)生反應(yīng)，并且可以從掩膜材料下方進(jìn)入。各向異性是指僅在一個(gè)方向上進(jìn)行蝕刻。當(dāng)僅需要在垂直方向上去除材料時(shí)，此屬性很有用，因?yàn)椴粫?huì)去除被掩膜材料覆蓋的材料。在高各向異性至關(guān)重要的情況下，可以使用僅使用物理去除或物理去除和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的干法蝕刻技術(shù)。這是因?yàn)樗鼈儧]有很高的各向異性，因?yàn)榉磻?yīng)物種可以在任何方向發(fā)生反應(yīng)，并且可以從掩膜材料下方進(jìn)入。各向異性是指僅在一個(gè)方向上進(jìn)行蝕刻。當(dāng)僅需要在垂直方向上去除材料時(shí)，此屬性很有用，因?yàn)椴粫?huì)去除被掩膜材料覆蓋的材料。在高各向異性至關(guān)重要的情況下，可以使用僅使用物理去除或物理去除和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的干法蝕刻技術(shù)。當(dāng)僅需要在垂直方向上去除材料時(shí)，此屬性很有用，因?yàn)椴粫?huì)去除被掩膜材料覆蓋的材料。在高各向異性至關(guān)重要的情況下，可以使用僅使用物理去除或物理去除和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的干法蝕刻技術(shù)。當(dāng)只需要在垂直方向上去除材料時(shí)，此屬性很有用，因?yàn)椴粫?huì)去除被掩膜材料覆蓋的材料。在高各向異性至關(guān)重要的情況下，可以使用僅使用物理去除或物理去除和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的干法蝕刻技術(shù)。

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